爱游戏-可量产0.2nm工艺！ASML公布Hyper NA EUV光刻机

[导读]6月16日动静，ASML客岁底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更壮大的Hyper NA EUV光刻机，估计可将半导体工艺推动到0.2nm摆布，也就是2埃米。 6月16日动静，ASML客岁底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更壮大的Hyper NA EUV光刻机，估计可将半导体工艺推动到0.2nm摆布，也就是2埃米。 ASML第一代Low NA EUV光刻机孔径数值只有0.33，对应产物定名NXE系列，包罗已有的3400B/C、3600D、3800E，和将来的4000F、4200G、4X00。 该系列估计到2025年可以量产2nm，再往后就得插手多重暴光，估计到2027年能实现1.4nm的量产。 High NA光刻机进级到了0.55，对应产物EXE系列，包罗已有的5000、5200B，和将来的5400、5600、5X00。 它们将从2nm以下工艺起步，Intel首发就是14A 1.4nm，估计到2029年摆布能过量产1nm，共同多重暴光可以在2033年前后做到0.5nm的量产，最少也能撑持到0.7nm。 接下来的Hyper NA光刻机估计将到达0.75乃至更高，2030年前后推出，对应产物定名为HXE系列。 ASML估计，Hyper AN光刻机也许能做到0.2nm乃至更进步前辈工艺的量产，但今朝还不克不及完全必定。 江南体育值得一提的是，单个硅原子的直径约为0.1nm，可是上边提到的这些工艺节点，其实不是真实的晶体管物理尺寸，只是一种等效说法，基在机能、能效必然比例的晋升。 好比说0.2nm工艺，现实的晶体管金属间距年夜约为16-12nm，以后将继续缩减到14-10nm。 Low/High/Hyper三种光刻机遇配合利用单一的EUV平台，年夜量的模块城市彼此通用，从而年夜年夜下降研发、制造、摆设本钱。 不外，High NA光刻机的单台价钱已高达约3.5亿欧元，Hyper NA光刻机必定继续年夜幅涨价，并且更加迫近物理极限，所以不管手艺仍是本钱角度，Hyper NA以后该怎样走，谁的心里都没数。 微电子研究中间(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就灰心地暗示：“没法想象只有0.2nm尺寸的装备元件，只相当在两个原子宽度。也许到了某个时刻，现有的光刻手艺必定终结。”

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本地时候6月11日，光刻机巨子ASML在领英平台发文吊唁公司开创人之一Wim Troost（维姆·特罗斯）离世。

要害字： ASML 阿斯麦

6月4日动静，据媒体报导，比利时微电子研究中间(IMEC)与阿斯麦(ASML)公布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设结合High-NA EUV光刻尝试室(High NA EUV Lithography Lab)。

要害字： 阿斯麦 光刻机

援用俄罗斯塔斯社最新动静，俄罗斯自研的首台光刻机已制造完成，今朝正在进行测试。

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本地时候4月22日，ASML公布已与荷兰埃因霍温市当局签订了一份意向书，打算在该市的北部机场四周进行扩建，届时将可容纳2万名新员工。这也许意味着，其搬离荷兰的打算也将告一段落了。

要害字： ASML 光刻机

4月23日动静，荷兰对光刻机巨子阿斯麦分开的动静感应十分管忧，但此刻环境有了较着的好转。

要害字： 光刻机 7nm

业内动静，近日光刻机制造商阿斯麦（ASML）发布了2024年第一季度事迹，财报显示，该公司当季总净发卖额53亿欧元，环比降落27%；毛利率51.0%，上季度为51.4%；净利润12亿欧元（当前约92.4亿元人平易近币），环比...

要害字： 光刻机 ASML

业内动静，两位知恋人士流露美国近日向荷兰施压，意图禁止荷兰光刻机出产企商阿斯麦（ASML）在中国供给一些东西装备的保护办事。中国驻美国年夜使馆暗示，中国否决美国过度强调国度平安概念，勒迫其他国度插手其对中国的手艺封闭。

要害字： ASML 芯片

业内动静，荷兰当局正在敲定注入最少10亿欧元资金的打算，以尽力将ASML留在荷兰。据悉，ASML不是独一在斟酌搬离荷兰的公司，今朝有少数几家确认正在斟酌将总部迁出荷兰，这足以激发荷兰当局对国内营商情况的存眷与从头审阅。

要害字： 荷兰 ASML